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コーターシステム

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減圧乾燥炉 HVDシリーズ

レジストをムラなく高速乾燥

 

コーターシステムの中でレジスト塗布後のガラス基板を高速かつムラなく乾燥します。

 

【特長】

第3世代から第8.5世代まで対応

各世代に対応できる製品をラインナップ

真空到達時間

真空到達圧力/時間 13pa/15sec

乾燥時間の短縮

ホットプレートプロセス時間が半減

低温乾燥によるムラの発生防止

減圧乾燥により焼きムラを極力削減

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